PECVD-Rohrofen
Der PECVD-Röhrenofen ist ein Röhrenofensystem zur Plasmagasphasenabscheidung, das aus einer Quarzreaktionskammer, einer Hochfrequenzstromversorgung, einem Mehrkanal-Gasmischsystem, einer Vakuumeinheit und einem Reaktionskontrollsystem besteht. Der Ofen verwendet hochreines Aluminiumoxidfasermaterial und die Oberfläche ist mit einer importierten Hochtemperatur-Aluminiumoxidbeschichtung beschichtet, um die Lebensdauer des Instruments zu verlängern und die Heizeffizienz zu verbessern. Vor der herkömmlichen chemischen Gasphasenabscheidung wird ein Hochfrequenz-Induktionsgerät installiert, um das Reaktionsgas zu ionisieren und Plasma zu erzeugen. Die hohe Aktivität des Plasmas beschleunigt die Reaktion. Es weist eine gute Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit auf, kann großflächige Filme bilden, kann bei niedrigen Temperaturen Filme bilden, verfügt über eine ausgezeichnete Stufenabdeckung, lässt sich leicht über die Zusammensetzung und Dicke des Films steuern und ist leicht zu industrialisieren. Es wird häufig beim Wachstum dünner Filme wie Graphen, Siliziummonoxid, Siliziumnitrid, Siliziumoxinitrid und amorphem Silizium (A-SI: H) verwendet.
| Ofenrohrgröße (MM) | Betriebstemperatur (°C) | Vakuumgrad | Leistung (KW) | Spannung | Heizelemente | Heizrate |
| Φ60*2200 | 1100°C | -0,1 MPA 10PA 6,67*10- 4PA | 3 | 220/380V | Widerstandsdraht | 1-20°C/MIN |
| Φ80*2200 | 3 | |||||
| Φ100*2200 | 4 | |||||
| Φ120*2200 | 5 |
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